वैक्यूम कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

वैक्यूम कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम से बना स्पटरिंग लक्ष्य है। इसका उपयोग सेमीकंडक्टर मैन्युफैक्चरिंग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले प्रोडक्शन और सोलर सेल मैन्युफैक्चरिंग जैसे विभिन्न अनुप्रयोगों में किया जाता है। अन्य प्रकार के स्पटरिंग लक्ष्यों की तुलना में, उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य बेहतर प्रदर्शन और विश्वसनीयता प्रदान करते हैं।

तत्व:

अत्यधिक घना
पिघलने वाले उपकरणों का तकनीकी संशोधन, सघन घनत्व बढ़कर 95 प्रतिशत -99 प्रतिशत हो गया

 

उच्च शुद्धता
विशेष कच्चा माल, शुद्धता 99.99 प्रतिशत न्यूनतम,

कम अशुद्धता सामग्री

 

उच्चा परिशुद्धि
परिशुद्ध CNC मशीनिंग केंद्र, सहनशीलता ±0.1mm, सतह खुरदरापन 3.2Ra

शिपिंग और पैकिंग:

ग्राहक प्रतिक्रिया:

हमें क्यों चुनें:
1, अनुकूलित रसायन विज्ञान, ज्यामिति और आकार के साथ वैक्यूम कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य अनुरोध पर बनाया जा सकता है
2, Xubo पतली फिल्म कोटिंग के लिए विभिन्न शुद्धता और आकारों में उच्च गुणवत्ता वाली वाष्पीकरण सामग्री और क्रूसिबल की एक विस्तृत श्रृंखला प्रदान करता है। ये सामग्री सभी वाणिज्यिक वाष्पीकरण प्रणालियों के लिए उपयुक्त हैं, चाहे आपकी आवश्यकता थर्मल वाष्पीकरण या इलेक्ट्रॉन बीम जमाव प्रणाली के लिए हो।
3, हमारी अखंडता, पारदर्शिता, उच्च मानकों का पालन और ग्राहक मूल्य के प्रति हमारी वचनबद्धता

लोकप्रिय टैग: वैक्यूम कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य, वैक्यूम कोटिंग निर्माताओं, आपूर्तिकर्ताओं, कारखाने के लिए चीन टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य